계획대로 인텔의 7nm 발전, 예상보다 빨리 도착할 것

인텔의 10nm 제조 노드는 원래 2016 년 하반기에 대량 생산을 시작할 계획이지만 오늘날 회사에서는 거의 사용하지 않습니다. 현재이 프로세스는 소수의 CPU 만 생산하는 데 사용되며 2019 년 후반에 대량 생산이 예정되어 있습니다. 인텔은 몇 년 동안 10nm 공정 지연으로 어려움을 겪었습니다. 회사와 비즈니스 제품. 그러나 인텔의 10nm는 회사의 7nm 기술이 원래 일정에 따라 도입 될 예정이므로 수명이 짧은 노드 일 수 있습니다.

인텔은 EUV로 7nm를 개발하는 데 훨씬 적은 문제가 있습니다

인텔은 10nm 제조 공정에 너무 공격적인 트랜지스터 스케일 밀도 목표를 설정했다고 밝혔다. 인텔의 10nm 제조 기술은 레이저가 193nm 파장에서 작동하는 딥 자외선 리소그래피 (DUVL)에만 의존합니다. 인텔이 10nm에서 달성하기로 결정한 미세한 기능 크기를 가능하게하기 위해이 프로세스는 다중 패턴을 많이 사용해야했습니다. 인텔에 따르면이 프로세스의 한 가지 문제는 멀티 패터닝을 집중적으로 사용하는 것이 었습니다.

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대조적으로, 인텔의 7nm 생산 기술은 선택된 층에 레이저 파장이 13.5nm 인 극 자외선 리소그래피 (EUVL)를 사용 하여 특정 금속층에 대한 다중 패턴 사용을 줄입니다. 생산 시간 단축 및 사이클 단축. 보이는 것처럼 7nm 제조 공정은 10nm 기술과는 별도로, 그리고 다른 장비로 개발되었습니다. 그 결과 인텔의 발표되지 않은 로드맵에 따라 개발이 진행 중이며 HVM에 진입 할 것으로 예상된다.

인텔은 2019 년 10nm 공정 기술을 사용하여 고객 CPU의 HVM 생산을 시작할 계획 이며 데이터 센터 제품은 곧 출시 될 것이라고 재확인 했다. 인텔이 이미 발표 한 10nm 제품을 건너 뛰지 않는 것은 분명하지만 7nm 제품이 예상보다 빨리 시장에 출시 될 수 있음을 의미합니다.

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