인텔, 2029 년까지 1.4nm 노드 구축 계획

인텔 이 향후 10 년 동안 2 년마다 새로운 프로세스를 도입하여 2029 년에 1.4nm 노드를 생성 할 것으로 보이는 인텔의 프로세스 기술 로드맵이 발표되었습니다 (위키 칩 (WikiChip)에 의해보고 됨) . 2021 년에 10nm +++로 동일한 노드에서

인텔, 2029 년까지 1.4nm 노드 구축 계획

로드맵은 진행중인 IEDM 2019 컨퍼런스에서 ASML 프레젠테이션으로 발표되었으며 9 월 인텔 프레젠테이션으로 거슬러 올라갑니다. 2019 년에는 10nm, 2021 년에는 7nm, 2023 년에는 5nm, 개발 및 정의에 각각 나와 있습니다. 10 월에 인텔은 2 년 반에서 2 년 반의 케이던스로 돌아가겠다고 발표했으며 5nm 노드에 대한 신뢰를 선언했습니다.

로드맵에 따르면 인텔은 3nm 및 2nm를 사용하고 있으며 1.4nm 노드는 현재 조사 중입니다. 인텔이 처음으로 해당 노드에서 작업하고 있음을 밝힌 것은 이번이 처음입니다. 모든 노드 사이의 시간 간격은 약 2 년으로 2025 년에 3nm를 기록했습니다. 그러나 7nm 출시는 2021 년 4/4 분기로 예정되어 있기 때문에 다음 10 년 동안 약간의 지연이 발생하면 3nm가 나중에 나올 수 있습니다. 따라서 2030 년까지 1.4nm를 끌어 올릴 것입니다.

로드맵에는 각 노드가 최적의 비용 성능 경로가되고 새로운 기능이 도입된다는 점을 제외하고 기술 수준에서 도입 할 변경 사항에 대한 세부 정보가 나와 있지 않습니다. 7nm의 경우 EUV 삽입을 의미 합니다. 5nm까지 인텔은 현재 FinFET에서 이후 노드에 쌓인 나노 와이어 FinFET로 이동할 것으로 예상됩니다. 인텔은 또한 차세대 하이 NA 5 나노 EUV 리소그래피 사용을 목표로하고있다. 인텔 리소그래피 디렉터는 최근“NA 함량이 높은 EUV 실행을 유지하기위한 행동 요청”을했다. SemiEngineering 에 따르면 2023 년 달력에 대해

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마지막으로 인텔은 올해 투자자 회의에서 회사가 노드 내에서 프로세스 최적화를 도입하기 위해 14nm에서 시작한 관행을 계속할 것이라고 발표했다 ('+'개정).

지금까지 개발중인 3nm보다 작은 노드에 대해 공개적으로 언급 한 제조업체는 없으므로이 정보가 흥미 롭습니다. 계속 알려 드리겠습니다.

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